ნახშირბადის ტეტრაფტორიდი (CF4)

ტექნიკური პარამეტრები

ნახშირბადის ტეტრაფტორიდი არის ჰალოგენირებული ნახშირწყალბადი ქიმიური ფორმულით CF4. ის შეიძლება ჩაითვალოს, როგორც ჰალოგენირებული ნახშირწყალბადი, ჰალოგენირებული მეთანი, პერფტორნახშირბადი ან არაორგანული ნაერთი. ნახშირბადის ტეტრაფტორიდი არის უფერო და უსუნო აირი, წყალში უხსნადი, ბენზოლსა და ქლოროფორმში ხსნადი. სტაბილურია ნორმალური ტემპერატურისა და წნევის ქვეშ, მოერიდეთ ძლიერ ოქსიდანტებს, აალებადი ან წვადი მასალების. უწვადი გაზი, მაღალი სიცხის ზემოქმედებისას კონტეინერის შიდა წნევა გაიზრდება და არსებობს გაბზარვისა და აფეთქების საშიშროება. ის არის ქიმიურად სტაბილური და აალებადი. მხოლოდ თხევადი ამიაკი-ნატრიუმის ლითონის რეაგენტს შეუძლია იმუშაოს ოთახის ტემპერატურაზე. ნახშირბადის ტეტრაფტორიდი არის გაზი, რომელიც იწვევს სათბურის ეფექტს. ის ძალიან სტაბილურია, შეუძლია დიდხანს დარჩეს ატმოსფეროში და არის ძალიან ძლიერი სათბურის გაზი. ნახშირბადის ტეტრაფტორიდი გამოიყენება სხვადასხვა ინტეგრირებული სქემების პლაზმური ჭურვის პროცესში. იგი ასევე გამოიყენება როგორც ლაზერული გაზი და გამოიყენება დაბალი ტემპერატურის მაცივრებში, გამხსნელებში, ლუბრიკანტებში, საიზოლაციო მასალებში და ინფრაწითელი დეტექტორების გამაგრილებლებში. ეს არის მიკროელექტრონული ინდუსტრიაში ყველაზე ხშირად გამოყენებული პლაზმური ამონაწერი გაზი. ეს არის ტეტრაფტორმეთანის მაღალი სისუფთავის აირის და ტეტრაფტორმეთანის მაღალი სისუფთავის აირის და მაღალი სისუფთავის ჟანგბადის ნაზავი. მისი ფართოდ გამოყენება შესაძლებელია სილიციუმის, სილიციუმის დიოქსიდის, სილიციუმის ნიტრიდისა და ფოსფოსილიკატური მინისთვის. თხელი ფილმის მასალების გრავირება, როგორიცაა ვოლფრამი და ვოლფრამი, ასევე ფართოდ გამოიყენება ელექტრონული მოწყობილობების ზედაპირის გაწმენდაში, მზის უჯრედების წარმოებაში, ლაზერულ ტექნოლოგიაში, დაბალი ტემპერატურის გაგრილებაში, გაჟონვის შემოწმებაში და სარეცხი საშუალებებში ბეჭდური მიკროსქემის წარმოებაში. გამოიყენება როგორც დაბალი ტემპერატურის გამაგრილებელი საშუალება და პლაზმური მშრალი გრავირების ტექნოლოგია ინტეგრირებული სქემებისთვის. სიფრთხილის ზომები შენახვისას: შეინახეთ გრილ, ვენტილირებადი არაწვად გაზის საწყობში. შეინახეთ ცეცხლისა და სითბოს წყაროებისგან მოშორებით. შენახვის ტემპერატურა არ უნდა აღემატებოდეს 30°C. ის უნდა ინახებოდეს ადვილად (წვადი) აალებადი ნივთიერებებისა და ოქსიდანტებისაგან განცალკევებით და მოერიდეთ შერეულ შენახვას. შესანახი ადგილი აღჭურვილი უნდა იყოს გაჟონვის გადაუდებელი აღჭურვილობით.

განაცხადი:

① მაცივარი:

ტეტრაფტორმეთანი ზოგჯერ გამოიყენება როგორც დაბალი ტემპერატურის გამაგრილებელი საშუალება.

② გრავირება:

იგი გამოიყენება ელექტრონიკის მიკროფაბრიკაციაში ცალკე ან ჟანგბადთან ერთად, როგორც პლაზმური ეშანტი სილიციუმის, სილიციუმის დიოქსიდისა და სილიციუმის ნიტრიდისთვის.

ჩვეულებრივი პაკეტი:

უპირატესობა:

①მაღალი სისუფთავე, უახლესი საშუალება;

②ISO სერტიფიკატის მწარმოებელი;

③ სწრაფი მიწოდება;

④ონლაინ ანალიზის სისტემა ხარისხის კონტროლისთვის ყოველ ნაბიჯზე;

⑤ მაღალი მოთხოვნა და ზედმიწევნითი პროცესი ცილინდრის შევსებამდე დამუშავებისთვის;