ნახშირბადის ტეტრაფტორიდი (CF4)

ტექნიკური პარამეტრები

ნახშირბადის ტეტრაფტორიდი არის ჰალოგენიზებული ნახშირწყალბადი ქიმიური ფორმულით CF4. ის შეიძლება ჩაითვალოს ჰალოგენირებულ ნახშირწყალბადად, ჰალოგენირებულ მეთანად, პერფტორნახშირბადად ან არაორგანულ ნაერთად. ნახშირბადის ტეტრაფტორიდი არის უფერო და უსუნო აირი, უხსნადი წყალში, ხსნადი ბენზოლსა და ქლოროფორმში. სტაბილურია ნორმალურ ტემპერატურასა და წნევაზე, მოერიდეთ ძლიერ ოქსიდანტებს, აალებად ან წვად მასალებს. არის უწვავი აირი, კონტეინერის შიდა წნევა იზრდება მაღალი ტემპერატურის ზემოქმედებისას და არსებობს ბზარების და აფეთქების საშიშროება. ის ქიმიურად სტაბილური და არაალებადია. ოთახის ტემპერატურაზე მხოლოდ თხევადი ამიაკი-ნატრიუმის ლითონის რეაგენტი შეიძლება მუშაობდეს. ნახშირბადის ტეტრაფტორიდი არის აირი, რომელიც იწვევს სათბურის ეფექტს. ის ძალიან სტაბილურია, შეუძლია დიდი ხნის განმავლობაში დარჩეს ატმოსფეროში და არის ძალიან ძლიერი სათბურის აირი. ნახშირბადის ტეტრაფტორიდი გამოიყენება სხვადასხვა ინტეგრირებული სქემების პლაზმური გრავირების პროცესში. ის ასევე გამოიყენება როგორც ლაზერული აირი და გამოიყენება დაბალი ტემპერატურის მაცივრებში, გამხსნელებში, საპოხი მასალებში, საიზოლაციო მასალებში და ინფრაწითელი დეტექტორების გამაგრილებელ საშუალებებში. ეს არის მიკროელექტრონიკის ინდუსტრიაში ყველაზე ხშირად გამოყენებული პლაზმური გრავირების გაზი. ის წარმოადგენს ტეტრაფტორმეთანის მაღალი სისუფთავის გაზისა და ტეტრაფტორმეთანის მაღალი სისუფთავის გაზისა და მაღალი სისუფთავის ჟანგბადის ნაზავს. მისი ფართოდ გამოყენება შესაძლებელია სილიციუმში, სილიციუმის დიოქსიდში, სილიციუმის ნიტრიდსა და ფოსფოსილიკატურ მინაში. თხელი აპკის მასალების, როგორიცაა ვოლფრამი და ვოლფრამი, გრავირება ასევე ფართოდ გამოიყენება ელექტრონული მოწყობილობების ზედაპირის გაწმენდაში, მზის ელემენტების წარმოებაში, ლაზერულ ტექნოლოგიაში, დაბალტემპერატურულ გაგრილებაში, გაჟონვის შემოწმებასა და სარეცხი საშუალებების გამოყენებაში ბეჭდური სქემების წარმოებაში. გამოიყენება როგორც დაბალი ტემპერატურის მაცივარი და პლაზმური მშრალი გრავირების ტექნოლოგია ინტეგრირებული სქემებისთვის. შენახვის უსაფრთხოების ზომები: შეინახეთ გრილ, ვენტილირებად არაწვადი გაზის საწყობში. მოარიდეთ ცეცხლს და სითბოს წყაროებს. შენახვის ტემპერატურა არ უნდა აღემატებოდეს 30°C-ს. ის უნდა შეინახოთ ადვილად (აალებადი) მასალებისა და ოქსიდანტებისგან განცალკევებით და მოერიდეთ შერეულ შენახვას. შესანახი ადგილი უნდა იყოს აღჭურვილი გაჟონვის საგანგებო დამუშავების აღჭურვილობით.

განაცხადი:

① მაცივარი:

ტეტრაფტორმეთანი ზოგჯერ გამოიყენება დაბალი ტემპერატურის მაცივარ აგენტად.

② გრავირება:

იგი გამოიყენება ელექტრონიკის მიკროწარმოებაში დამოუკიდებლად ან ჟანგბადთან კომბინაციაში, როგორც სილიციუმის, სილიციუმის დიოქსიდის და სილიციუმის ნიტრიდის პლაზმური ამორტიზატორი.

ჩვეულებრივი პაკეტი:

უპირატესობა:

①მაღალი სისუფთავე, უახლესი ობიექტი;

②ISO სერტიფიკატის მწარმოებელი;

③ სწრაფი მიწოდება;

④ ონლაინ ანალიზის სისტემა ხარისხის კონტროლისთვის ყოველ ეტაპზე;

⑤ შევსებამდე ცილინდრის დამუშავების მაღალი მოთხოვნა და საფუძვლიანი პროცესი;