ლაზერული გაზი

ლაზერული გაზი ძირითადად გამოიყენება ლაზერული annealing და ლითოგრაფიული გაზისთვის ელექტრონიკის ინდუსტრიაში. მობილური ტელეფონის ეკრანების ინოვაციით და განაცხადის სფეროების გაფართოებით, კიდევ უფრო გაფართოვდება დაბალი ტემპერატურის პოლისილიკონის ბაზრის მასშტაბები, ხოლო ლაზერული annealing პროცესმა მნიშვნელოვნად გააუმჯობესა TFT– ების შესრულება. ნეონის, ფტორისა და არგონის გაზებს შორის, რომლებიც გამოიყენება ARF ექსიმერის ლაზერში, ნახევარგამტარული წარმოებისთვის, ნეონი შეადგენს ლაზერული გაზის ნარევის 96% -ზე მეტს. ნახევარგამტარული ტექნოლოგიის დახვეწით, გაიზარდა ექსიმერული ლაზერების გამოყენება, ხოლო ორმაგი ექსპოზიციის ტექნოლოგიის დანერგვამ განაპირობა ARF ექსიმერის ლაზერების მიერ გამოყენებული ნეონის გაზზე მოთხოვნის მკვეთრი ზრდა. ელექტრონული სპეციალობის გაზების ლოკალიზაციის პოპულარიზაციით, შიდა მწარმოებლებს მომავალში უკეთესი ბაზრის ზრდის ადგილი ექნებათ.

ლითოგრაფიული მანქანა არის ნახევარგამტარული წარმოების ძირითადი მოწყობილობა. ლითოგრაფია განსაზღვრავს ტრანზისტორების ზომას. ლითოგრაფიის ინდუსტრიის ჯაჭვის კოორდინირებული განვითარება ლითოგრაფიის აპარატის მიღწევის გასაღებია. შესაბამისი ნახევარგამტარული მასალები, როგორიცაა Photoresist, Photolithography Gas, Photomask და საფარი და განვითარებადი აღჭურვილობა მაღალი ტექნოლოგიური შინაარსით. ლითოგრაფიული გაზი არის გაზი, რომელსაც ლითოგრაფიული მანქანა წარმოქმნის ღრმა ულტრაიისფერი ლაზერს. სხვადასხვა ლითოგრაფიის გაზებს შეუძლიათ წარმოქმნან სხვადასხვა ტალღის სიგრძის მსუბუქი წყაროები, ხოლო მათი ტალღის სიგრძე პირდაპირ გავლენას ახდენს ლითოგრაფიის აპარატის რეზოლუციაზე, რომელიც ლითოგრაფიის აპარატის ერთ - ერთი ბირთვია. 2020 წელს, ლითოგრაფიის აპარატების მთლიანი გლობალური გაყიდვები იქნება 413 ერთეული, რომელთაგან ASML გაყიდვები 258 ერთეულმა შეადგინა 62%, Canon Sales 122 ერთეული შეადგინა 30%, ხოლო Nikon Sales 33 ერთეული შეადგენდა 8%.